| 膜层承载结构及其形成方法、透射电子显微镜分析方法 |
| CN202310386012.1 2023-4-7 发明申请 |
| 2023-7-14 |
| 本公开涉及一种膜层承载结构及其形成方法、透射电子显微镜分析方法。所述膜层承载结构包括：基底，所述基底中具有沿第一方向贯穿所述基底的通孔，所述通孔的孔径为纳米级别，所述第一方向垂直于所述基底的顶面；支撑层，所述支撑层位于所述基底的顶面上，用于承载待测膜层，用于表征所述待测膜层的电子束能够穿透所述支撑层，且所述基底能够遮蔽所述电子束。本公开实现了对待测膜层原子尺度透射电子显微镜图像的获取，且简化了对待测膜层进行透射电子显微镜分析的操作。 |
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