| 用于制造光掩模方法使用原子力显微镜 |
| KR1020070010117 2007-1-31 发明申请 |
| 2008-8-5 |
| 目的 : 一种用于制造光掩模的方法使用一种AFM(原子力显微镜)被提供到省略一抗蚀剂涂布过程，曝光过程，一个显影过程，和一个条的过程刮伤的光屏蔽层与一适当的强度。结构 : 一种相移层(102)和一个光屏蔽层(104)被形成在一衬底(100)。一个所述光屏蔽层被去除的部分通过使用一种AFM。所述的移除该光屏蔽层是通过控制所述执行一个所述AFM的尖端到划痕的强度所述光屏蔽层，直到所述相移层被揭示。所述的所述AFM的尖端具有一直径大约20nm。所述光屏蔽层是作为一掩模蚀刻所述相移层。所述相移层是由mosin的。该光屏蔽层是由铬的，因此，一个精细图案是通过使用所述的尖端形成所述AFM。kipo2008 |
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