| 原子力显微镜相同的设备和所述的电特征的测量方法 |
| KR1020060106921 2006-10-31 发明申请 |
| 2008-5-7 |
| 目的 : 一种原子力显微镜测量的装置和方法使用所述相同的电特性被提供给执行一种使用一具有蚀刻剂蚀刻的尖端细加工过程。结构 : 一种原子力显微镜装置包括一支撑部和一个存储部分。所述支撑部分具有一多层结构包括一第一氮化硅层(110)，一个第一氧化物层(108)，一硅衬底(100)，一第二氧化物层(112)，和一个第二硅层(114)。所述存储部具有一多层结构包括第一氧化物层，所述硅衬底，所述第二氧化物层，和第二氮化硅层。所述存储部具有一孔形接触部分，使得所述存储部中存储的所述蚀刻剂流出，kipo2008 |
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