| 一种透射电镜中二维材料晶格层数与间距的测量方法 |
| CN202311075648.0 2023-8-25 发明申请 |
| 2023-12-22 |
| 本发明涉及一种透射电镜中二维材料晶格层数与间距的测量方法，包括：接收待测量透射电镜图；将所述待测量透射电镜图输入至目标图像分割模型，得到标记有层状结构的二值化图像；对所述待测量的透射电镜图进行图像处理，确定所述待测量的透射电镜图中标尺所占的像素点；使用骨架提取算法对标记有层状结构的二值化图像进行处理，得到骨架化图像；以垂直层状结构的方向，遍历所述骨架化图片中的像素点；确定垂直层状结构的方向像素点位置和个数，并结合所述标尺所占的像素点，计算透射电镜中的层数与层间距。本发明实现了对二维材料的层数与间距的自动化测量。 |
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