| 临界尺寸-扫描电镜系统的匹配方法 |
| KR1020050130934 2005-12-27 发明申请 |
| 2007-7-2 |
| 目的：提供一种CD(Critical Dimension)-SEM(Scanning Electron Microscope，扫描电子显微镜)的匹配方法，无论工作人员的熟练程度如何，都能够容易地进行匹配作业，从而提高正常工作时间，并将标准晶片的变形的影响抑制在最小限度。 构成：选择CD-SEM之一作为基准设备(S1)。 通过使用从标准晶片获得的第一CD图像测量第一CD，其中通过使用基准设备拍摄第一CD图像(S2)。 通过使用从标准晶片获得的第二CD图像来测量第二CD，其中第二CD图像通过使用CD-SEM的其它图像来拍摄(S3)。 通过将第一CD值与第二CD值进行比较来计算校正常数(S4)。 当使用其它CD-SEM时，通过使用校正常数增加校正过程(S5)。 ?KIPO 2007 |
微信公众号