| 定量的分析方法用于使用光学显微镜的表面粗糙度 |
| KR1020050126461 2005-12-20 发明申请 |
| 2007-6-25 |
| 目的 : 一种用于定量方法分析该表面粗糙度通过使用光学显微镜是提供以定量地评价所述表面粗糙度通过使用一蚀刻工艺后所述的光学显微镜。结构 : 一种用于定量方法分析所述后表面粗糙度一蚀刻工艺在硅晶片制造过程包括测量所述的步骤的一个表面的图像该硅晶片与一光学显微镜(210)，测量一灰度色调等级的横截面的曲线根据以一种通过使用一公共的图像的像素中的程序所测得的图像(220)，进行调平与一剩余差值与相对于一最小平方的平均线，其中所述的平方值中计算一参考线所述位移是最小化，定量地分析所述整平的表面粗糙度通过定量计算与参数分布。kipo2007 |
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