| 结构化暗场照明装置，用于显微镜，E。G。用于检查的光刻掩模，具有分束器和逆用于掩蔽结构化的照明光束聚焦的光束路径中的孔径从物体反射 |
| DE102005035552 2005-7-29 发明申请 |
| 2007-2-1 |
| 可用本发明涉及一种装置，用于所述光学结构化表面的调查，在特定photolithografischer掩模，通过dunkelfeldbildern。根据本发明所述装置用于生产一种结构化的暗场照明用于显微结构由一个照明光束路径(1)和一个图像光束路径(2)，与所述对象的一个光学系统到该说明其可以检查(5)一种图像记录装置(4)上的税和一个评价单元。这里被照明光束路径(1)中的一个屏幕(7)与至少一个开口作为阱作为一种结构化屏(8)，用于生产在所述图像中的至少一种结构化的照明喷射和光束路径(2)一束分束器(9)，用于连接至少一个结构化的照明射流和一个，以所述屏幕(7)为照明光束路径逆屏幕(10)，用于衰落进行所述物体(5)反射的结构化的照明喷射设置。一种溶液是建议，其不需要特殊的暗场目标相反到所述的经典暗场过程。所述暗的场效应是产生通过所述照射光瞳中的干扰和所述的出射光瞳的所述的系统。 |
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