| 形成排列的微孔的方法，标准样品用于原子力显微镜(AFM)，和AFM阶段 |
| JP2005154241 2005-5-26 发明申请 |
| 2006-12-7 |
| 要解决的问题 : 提供一种方法用于形成微孔的排列具有一底面和能够自由地控制它们的阵列。溶液 : 该方法用于形成所排列的微孔包括形成microdefects2作为起始点一个阵列中的刻蚀，形成在所期望的位置在一单晶蓝宝石衬底1的表面它具有一个(0001)的平面或平面具有该偏离角10°或更少的从所述(0001)。平面作为主平面，形成该蚀刻坑2a通过蚀刻所述microdefects2，和热-处理所述蚀刻凹坑2a。版权 : (℃)2007，约inpit |
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