| 光显微镜方法和光显微镜装置 |
| EP21843709 2021-12-21 发明申请 |
| 2023-11-1 |
| 本发明涉及一种光学显微镜方法，包括：用激发光束(14)照射包含荧光染料分子(F)的样品(S); 用第一阻碍光束(15)照射样品(S); 产生具有至少一个局部最小值(M)的阻碍光(I)的强度分布(D); 在与局部最小值(M)重叠的区域(A)中提供附加阻碍光(I); 在没有附加阻碍光(I)的情况下从区域(A)获得第一荧光信号; 以及在存在附加的阻碍光(I)的情况下从区域(a)获得第二荧光信号，并通过第二荧光信号校正第一荧光信号，其中在强度分布(D)的每个点处，阻碍光(I)具有大于阻碍光(I)的饱和强度的光强度(Il); 阻碍光(I)的光强度(I＜sub＞l＜/sub＞)在存在附加阻碍光(I)的情况下的强度分布(D)和不存在附加阻碍光(I)的情况下的强度分布(D)之间相差20%或更小。本发明还涉及一种特别是用于实施根据本发明的方法的光显微复制装置(1)。 |
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