| 扫描电子显微镜和方法用于测量通过所述相同的工艺裕度 |
| KR1020040096716 2004-11-24 发明申请 |
| 2006-5-29 |
| 目的 : 一种SEM(扫描电子显微镜)和一种使用所述相同的工艺裕度检查方法被提供给校验自动所述CD(临界尺寸)的曝光能量和聚焦。结构 : 一种SEM包括一个数据存储单元，一数据比较单元; 和一个自动设定单元，所述数据存储单元(24)是用于测量和存储所述光盘的一个预定图案的。所述预定图案是一半导体晶片上形成的，所述数据比较单元(26)是用于比较所述CD数据存储在所述数据存储单元与一个新的半导体晶片的预定数据，所述的自动设定单元(28)是用于设定所述CD所述新的半导体晶片上的数据代替的所述预定数据，当所述所述光盘之间的差值数据和所述预定数据存在。kipo2006 |
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