| 用于形成精细图案的方法使用原子力显微镜 |
| KR1020050034544 2005-4-26 发明申请 |
| 2006-10-31 |
| 目的 : 一种用于形成精细图案的半导体装置的方法是提供以提高分辨率的所述细图案和容易地形成精细的凹槽区域通过使用AFM(原子力显微镜)。组成 : 铬膜(210)和一种抗蚀剂薄膜被形成在石英衬底(200)。一种AFM的悬臂装置是位于从所述抗蚀剂薄膜的表面分开。电压被施加到后产生该电位之间的差该石英基板和所述悬臂，该抗蚀剂薄膜被去除，根据所述的移动轨迹的所述悬臂通过使用所述电位的差值和所述铬膜被氧化，然后，该抗蚀剂薄膜和所述氧化铬膜被去除，kipo2007 |
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