| 检测超微细结构涉及原子力显微镜的工作区域中设置半导体衬底，粗定位基板，每个传感器被在表面子区域，移动衬底上以读出子区域linewise |
| DE102006015473 2006-3-31 发明申请 |
| 2006-10-12 |
| 该过程根据本发明的用于所述收集的超微细结构，特别是在半导体基板，其特征在于，所述所述半导体衬底的工艺步骤(1)布置在所述一排列的多个AFM的工作区域，(2)的粗定位所述半导体衬底，使得每个所述表面的AFM是在一邻区其可被检查，(3)的运动所述半导体衬底，使得每个子范围是由一种AFM扫描线由线，其中所述AFM将不驱动所述表面的一运动出在该电平，其可以被检查。基本的原理，根据本发明的过程被基于因此该技术在移动的半导体衬底相反的状态，同时所述AFM或它们的位置，其中所述表面，其可以被检查的电平而论，不变化。然而所述AFM的被垂直地运动到该表面进一步可能的，作为被描述的下更近。 |
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