| 用于校准显微镜成像装置的方法，系统和计算机程序产品 |
| US10953646 2004-9-29 发明授权 |
| 2006-10-3 |
| 一种在其上实施校准方法的成像系统，包括 : 光源； 支撑物体的基板； 图案化掩模，其在所述物体上产生基本上周期性的空间图案； 移相器，其调整图案化掩模与物体的相对位置，以移动图案在物体上的位置； 检测所述对象的图像的检测器； 以及分析器，其分析所述对象的至少三个图像，每个图像表示所述图案的不同空间偏移，所述分析器被配置为从所述图像中去除所述空间图案以生成所述对象的光学分段图像。 一种校准方法，包括 : 通过相电压技术校准掩模相对于衬底的位置； 利用价值函数技术校准掩模相对于衬底的位置； 以及操作校准的成像系统。 |
微信公众号