| 与光学显微镜一起使用的自动聚焦方法和装置 |
| US10506860 2003-3-13 发明授权 |
| 2006-9-19 |
| 提供了一种自动聚焦方法和装置，用于确定支撑在由相对于入射电磁辐射透明的材料制成的基板上的样品的聚焦位置。 所述方法利用能够将入射电磁辐射导向样品并收集待检测的入射电磁辐射的反射的光学系统。 物镜装置的焦平面位于与衬底的样品支撑表面相对的衬底表面的预定距离处。 提供焦平面相对于衬底沿着物镜装置的光轴的连续位移，同时通过物镜装置将入射辐射同时导向样品，从而将入射辐射聚焦到物镜装置的焦平面处的位置。 连续检测电磁辐射到定位物镜装置的反射分量。 所检测的反射分量的特征在于 : 对应于衬底的所述相对表面的对焦位置的第一强度峰值，以及与第一强度峰值在时间上隔开并且对应于衬底的所述样品支撑表面的对焦位置的第二强度峰值。 该技术使得当在衬底的样品支撑表面的对焦位置中时能够对样品进行成像。 |
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