| 使用低能量nanopatterning的有机和金属薄膜的原子力显微镜系统 |
| KR1020050090077 2005-9-27 发明授权 |
| 2006-9-13 |
| 目的 : 一种方法用于制造一种纳米一金属薄膜的图案是提供以最小化所述的散射一个样品中的电子，以防止所述损伤该样品通过使用一低能量的AFM(原子力显微镜)系统。结构 : 一种有机抗蚀剂被涂覆在一衬底。一种电场是该所得结构上形成由一探针之间施加预定电压和所述基板使用一低能量的电子照射的AFM。物理该有机抗蚀剂的性质被改变。一种纳米薄膜图案被形成在所述的所得结构执行该有机抗蚀剂上的一显影过程，然后，一个针对一种金属纳米图形的薄膜被形成在所得到的结构通过执行干刻蚀工艺或剥离过程使用所述纳米薄膜图案所述合成的有机抗蚀剂作为蚀刻掩模，kipo2006 |
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