| 显微镜装置 |
| JP2004361295 2004-12-14 发明申请 |
| 2006-6-29 |
| 要解决的问题 : 以提供一显微镜装置能够显著减少灰尘粘在一样品的诸如使用一种浸物镜透镜的半导体晶片和所述水印的发生所述样品上通过快速干燥液的剩余所述样品上进行所述的可视检查后的样品。溶液 : 所述的显微镜装置1用于执行所述的可视检查所述晶片W，是提供具有一液体干燥装置30具有一保持级31用于保持所述晶片W和一驱动部分32用于倾斜所述保持台31，和一种晶片输送装置40用于输送所述检查台21之间的晶片W和所述保持台31，和所述的可视检查结束后，所述晶片W，其中所述液体E是已经吸附通过一抽吸喷嘴22aD被传送通过一个输送臂42从所述检查台21到所述保持级31，此后，该保持台31是由所述驱动部32倾斜(箭头(1)中的图。)，和还，由一旋转部分33旋转(箭头(2)中的图。)，和所述液体E所述的表面上剩余的所述晶片W被振落，然后，该晶片W被干燥。版权 : (C)2006，膜℃。 |
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