| 显微镜装置 |
| JP2004361296 2004-12-14 发明申请 |
| 2006-6-29 |
| 要解决的问题 : 以提供一显微镜装置能够显著减少灰尘粘在一样品的诸如使用一种浸物镜透镜的半导体晶片和所述水印的发生所述样品上通过快速干燥液的剩余在所述的可视检查后所述样品的样品。溶液 : 所述晶片的所述的可视检查是通过执行供给所述液体通过一供应喷嘴之间在所述所述物镜和所述晶片的引出端，所述的可视检查结束后，所述液体被吸入从所述晶片通过一抽吸喷嘴，所述的显微镜装置被提供有一风扇过滤单元的上方设有所述的显微镜装置从而，以产生所述向下气流，一种晶片输送装置，用于输送所述晶片从一个检查阶段以一种盒式磁带，和一个干燥机构，用于吹在速度高于所述的空气产生的电流由所述风扇过滤单元，和当输送所述晶片，其中所述已经通过所述吸嘴吸入的液体是从所述检查阶段到所述盒式磁带的所述的可视检查后所述晶片输送装置，所述空气是通过喷涂所述干燥机构，从而干燥所述晶片的表面上剩余的液体。版权 : (C)2006，膜℃。 |
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