| 长工作距离非相干干涉显微镜 |
| US10857115 2004-5-27 发明授权 |
| 2006-4-25 |
| 一种全场成像，长工作距离，非相干干涉显微镜，适用于标准微电子探针站上MEMS器件和测试结构的三维成像和计量。 大于10mm的长工作距离允许使用标准探针或探针卡。 这使得MEMS测试结构的纳米级三维高度分布能够在主动探测的同时，并且可选地通过透明窗口而在整个晶片上获得。 不需要光学上相同的一对样品和参考臂物镜，这降低了整个系统的成本，并且还降低了改变样品放大率所需的成本和时间。 使用LED光源，可以获得具有优异图像质量，直条纹和高条纹对比度的高倍率(例如50×)。 |
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