| 模式匹配装置和扫描电子显微镜使用它 |
| JP2004244555 2004-8-25 发明申请 |
| 2006-3-9 |
| 要解决的问题 : 以解决的问题复杂的图像处理参数的设定时所需的是一个图案轮廓被评估或检查位置是通过进行图案检测所述的图像之间的修补一半导体通过扫描电子显微镜拍摄的装置和所述的半导体装置的设计数据。溶液 : 该模式匹配装置可被安装到一种扫描电子显微镜系统，例如，和提取图案通过改变与高精度的SEM图像中包含的一滤波器参数由所述图像处理参数的利用率直观地相关，以所述获得一种白色带的宽度从所述因此匹配设计的SEM图像数据和一个图案。它可以被所述的对应计算中利用一种半导体装置的所述图案的拍摄由一个SEM和所述设计数据，所述检测所述SEM图像的一个位置匹配的所述图案从所述设计数据; 和所述检测所设计的一个位置匹配的所述图案数据从所述SEM图像。版权 : (C)2006，膜℃。 |
微信公众号