| 用于基于掩模的光刻，无掩模光刻II和显微镜的大面积电子发射系统 |
| US11188043 2005-7-22 发明申请 |
| 2006-1-26 |
| 本发明涉及用于产生和引导电子流的各种系统，以及相关方法，制造技术和相关部件，例如可用于光刻，显微镜和其它应用中。 在一个实施例中，本发明涉及一种系统，所述系统包括 : 电子源，所述电子源具有多个可独立致动的发射表面，每个所述发射表面能够发射电子；以及光学柱，所述光学柱邻近所述电子源，所述发射的电子穿过所述电子源。 所述光学柱包括多个可致动电极，所述可致动电极能够影响所发射的电子所采取的路径。 |
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