| 本发明涉及一种基于共焦显微测量装置和方法的原理。本发明的装置包括一光源(1),一膜片单元(3)用于限制光束,一个成像光学系统(4)用于聚焦的光(5),它是由所述源照射在一可测量的物体(6)和通过通过所述膜片单元。所述装置还包括一个光学系统(10),用于接收所述的光(5)从所述物体反射并通过通过所述光学系统或另一个隔膜单元中设置一观测束(7)和一个图像接收器(10),其为提供具有至少两个辐射-敏感的传感器元件(13,14)(像素)。所述本发明的特征在于,其中,为了得到一种含高度信息测量所述的图像,该装置还设有装置(11)用于修改所述光束光学路径长度之间设置所述光源(1)和\/或所述的图像接收器(10),一个上侧,和所述物体(6)在所述其它和所述的光学距离(d)一焦点在一预定的方式被修改。另外,所述意图使它可能以影响所依赖的一个累积的电荷(Q13,Q14)在至少两个传感器元件(13,14)在所述所观察的光束的光强度(7)所述的曝光时间期间在这种方式,其一个相关性与所述的光学距离(D)相关联的一个图像平面可以进行通过所述的投影光学系统(4),从而使它可能以重建该对象的所述高度坐标(zs)通过该曝光期间所获得的强度值分配时间从至少两个传感器元件(13,14)。 |