| 使用聚焦离子束处理的方法，纳米管探针，显微镜装置，和电子枪 |
| JP2004064884 2004-3-8 发明申请 |
| 2005-9-22 |
| 要解决的问题 : 以达到高度精确和均匀的精细处理通过调整聚焦离子束照射能量或每处理一处理速度区域单元处理的样品具有一梯度时的深度和\/或一种处理一聚焦离子束照射的被处理的效率。溶液 : 该处理方法使用所述离子束组的一个区域具有一最大的平均处理的深度作为一初始处理区，当所处理的处理区域具有梯度的深度或处理效率; 和一个阶段组以上的一个连续或逐步扩展处理的区域在一个方向在其该平均处理所述初始处理区的深度变浅或在一个方向，其中所述处理效率变大，处理后所述初始处理区; 和在该方向连续地处理该扩展处理区域，其中所述平均处理中的深度变浅，以及去除所述整个所述处理的区域。因此，所述的方法，可以设定所述光束的照射能量或每处理区域单元和所述处理速度达到所述高度精确和均匀的微细加工。 |
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