| 显微镜和样品观察方法 |
| US10880100 2004-6-30 发明申请 |
| 2005-9-1 |
| 对于作为检查对象的半导体器件S，提供了图像获取部分1，包括物镜20的光学系统2和固体浸没透镜(SIL)3，该固体浸没透镜(SIL)3可在包括从半导体器件S到物镜20的光轴的插入位置和离开光轴的待机位置之间移动。 然后，在两种控制模式下进行观察，所述两种控制模式包括第一模式，在所述第一模式中，SIL3位于待机位置，并且在所述第一模式中，基于半导体器件S的衬底的折射率NO和厚度TO执行聚焦和像差校正， 以及第二模式，其中SIL3位于插入位置，并且其中基于衬底的折射率NO和厚度T0以及SIL3的折射率N1，厚度D1和曲率半径R1执行聚焦和像差校正。 本发明提供一种显微镜和样品观察方法，其能够容易地进行分析半导体器件的微结构等所需的样品的观察。 |
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