| 远紫外辐射的制造方法使用原子力显微镜的光刻掩模反射镜 |
| KR1020030082777 2003-11-20 发明申请 |
| 2005-5-25 |
| 目的 : 一种方法用于制造一反射多层薄膜反射镜，用于EUV(远紫外)曝光过程中使用AFM(原子力显微镜)光刻被提供给各种类型的录制掩模图案的图像和几个纳米到一基板在一个曝光过程中使用AFM的光刻构图一种吸收材料。结构 : 一反射多层薄膜(3)和一个钝化层(5)被沉积在硅衬底(1)。一个金属薄膜选自铬，钽和钨被淀积作为一种吸收材料(7)所述的多层薄膜和所述钝化层上，通过使用AFM，一个电场被施加到一种探针之间的间隙和所述薄膜结构的一衬底到选择性地形成一金属氧化物结构层(9)具有一预定高度和预定宽度。所述金属氧化物结构层被蚀刻以形成一个吸收图案的一个超精细线与。kipo2006 |
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