| 荧光显微镜装置 |
| WOIB05050354 2005-1-27 发明申请 |
| 2005-8-18 |
| 本发明涉及一种显微镜装置和以一个空间分布与其中所述的方法的一个磁和\/或电敏感的荧光标记(21)在一个样品(20)可以被确定。荧光辐射(vf)是通过初级辐射激发所述样品中的(ve)(20)和通过显微镜成像。在所述相同的时间，该样品(20)内的空间不均匀的磁和\/或电场(33)被产生，其具有，例如，一个小的焦点区(22)的最小场强度。所发射的荧光辐射是局部修改在所述焦点区(22)，其可以观察到在所述测得的强度分布(ifm)。在这种方式，所述荧光标记(21)的所述分布，即使在区(22)具有一个尺寸低于所述光学显微镜的分辨率(10)可以被重构。 |
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