| 产生近场光的方法，用于近场曝光掩模，近场曝光方法和装置，近场光头，扫描近场光学显微镜，和记录\/重放装置 |
| JP2003334610 2003-9-26 发明申请 |
| 2005-4-14 |
| 要解决的问题 : 以提供一种用于产生近场光的方法，其高度有效地产生所述近场光和还具有较高的近场光强度，和还提供一种用于近场曝光掩模，所述近场曝光方法和装置，所述NEA场光头，扫描近场光学显微镜，和一个记录\/重放装置。溶液 : 一个用于产生近场光的方法，包括所述的步骤 : 进入光到显微开口具有一个所述的光的波长不多于一个的尺寸; 和在所述的附近形成一微观光点所述开口在所述光出射侧的所述显微开口。在形成所述光点，该显微开口被形成在一个具有垂直和水平尺寸的矩形形状从每个其它不同的，以形成所述光点具有大约相同的垂直和水平尺寸与所述矩形状开口。 |
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