| 制造方法和制造用于一种使用原子力显微镜的光掩模光刻 |
| KR1020030049744 2003-7-21 发明申请 |
| 2005-1-28 |
| 目的 : 一种方法制造的一种使用一种原子力显微镜的光掩模的光刻技术和所述光掩模，从而被提供到一个体现一种精细的图案而不损伤衬底和以得到各种图案的图像通过使用一种原子力显微镜一光刻工艺中。结构 : 一金属薄膜(12)制成的钛或铬沉积在一透明玻璃，石英衬底(10)通过使用溅射。一种具有预定高度和宽度是生长氧化物层从所述衬底通过施加电场以一种使用一种原子力显微镜悬臂尖端和所述衬底。细金属薄膜图案是通过从中去除所述氧化物层形成。kipo2005 |
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