| 光刻过程使用扫描电镜和光学显微镜检查系统 |
| KR1020030012075 2003-2-26 发明申请 |
| 2004-9-3 |
| 目的 : 一光刻工艺使用一种扫描电子显微镜检查系统和一光学显微镜是提供以得到一种从一个晶片上的区域的轮廓和降低检查过程的一个周期通过使用多个反射器的用于检查一晶片上的区域，构成 : 一光刻工艺的检查系统包括一种扫描电子显微镜和一光学显微镜，以便检查简档中的一个晶片(30)一种光刻过程后，所述的光学显微镜(10)包括多个的反射器(40，42，44)，以便获得所述轮廓从一个上区中的所述晶圆，该反射器被安装在一预定位置，以便交叉所述的光束中所述的光学显微镜和所述光束的扫描电子显微镜。kipo2005 |
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