| 标准用于扫描探针显微镜样品，和制造方法及其 |
| JP2004111248 2004-4-5 发明申请 |
| 2004-9-2 |
| 要解决的问题 : 以提供一参考样品用于一种扫描探针显微镜能够准确地检测的每个力成为一种标准，而不被影响的不均匀表面的数据。解决方案 : 一种光致抗蚀剂膜12被施加到所述的一种硅基板10的表面图(a)为示出由图(B)和一个光刻工艺中的图案化以形成一抗蚀剂掩模12为示出由图(c)。与所述抗蚀剂掩模12作为蚀刻掩模，各向异性蚀刻是通过使用该抗蚀剂掩模进行12为一蚀刻掩模，以形成空腔部分，其中所述壁的表面被所述硅衬底中的垂直10为示出由图(d)。虽然图未示出，但此后金属沉积通过所述抗蚀剂掩模12通过一个气相沉积方法; 和所述金属位于高于所述抗蚀剂掩模12是由一剥离工艺除去以形成所述标准样品，其中所述所述硅衬底10已经填充的凹部与所述的金属。进一步，一个DLC膜可以被施加到所述标准样品的表面和所述表面的所述样品可以被平滑。 |
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