| 显微镜的场曲校正方法及其校正装置 |
| CN202211730795.2 2022-12-30 发明申请 |
| 2023-4-25 |
| 本公开描述一种显微镜的场曲校正方法及其校正装置，校正方法包括：将标准工件置于承载平台，标准工件具有标准面；令标准面位于显微物镜的焦平面；令标准面的像面为初始像面，获取初始像面中的多个初始成像点，令多个初始成像点的空间位置坐标作为多个第一坐标，多个初始成像点与标准面中的各个待测点一一对应；将多个初始成像点映射至基准平面并得到多个与多个初始成像点相匹配的多个目标成像点，多个目标成像点与多个初始成像点一一对应；令多个目标成像点的空间位置坐标为多个第二坐标；在测量过程中，基于多个第一坐标和多个第二坐标校正显微镜的场曲。根据本公开，能够提供一种能够提高对待测工件的测量精度的场曲校正方法及其校正装置。 |
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