| 用于先进过程控制的集成扫描电子显微镜和光学分析技术 |
| KR1020217000776 2019-6-7 发明授权 |
| 2023-4-3 |
| 样品分析系统包括扫描电子显微镜、光学和/或电子束(eBeam)检查系统和光学测量系统。 该系统进一步包括至少一个控制器。 所述控制器接收所述样品的第一多个选定感兴趣区域； 基于由所述扫描电子显微镜在所述第一多个选定感兴趣区域中执行的所述第一检查来生成第一临界尺寸均匀性图； 基于所述第一临界尺寸均匀性图，确定第二多个选定感兴趣区域； 基于由光学和/或电子束检查系统在第二多个选定感兴趣区域中执行的第二检查来生成第二临界尺寸均匀性图； 其经配置以基于由所述光学计量系统对所述样品执行的所述测试结果及重叠测量来确定一或多个工艺工具控制参数。 |
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