| 清洗系统 |
| JP2008220996 2008-8-29 发明申请 |
| 2010-3-11 |
| 要解决的问题 : 以提供一清洁系统的可分离的杂质包含在一个清洁流体从所述清洗流体无需人力和费用。溶液 : 所述清洗系统10包括一个气相色谱仪20检测该清洗流体中所含的杂质，一气体-液体分离器18分离的杂质从所述清洗流体和一个控制器21。所述气相色谱仪20检测后的杂质残留在所述清洗流体流动出的所述气体-液体分离器18和通过一杂质检测装置检测的输出结果到该控制器21。在顺序用于所述杂质后剩余在所述清洗流体流动出的所述气体-液体分离器18到从所述清洗流体被消除，该控制器21所述的压力调整所述清洗流体在所述气体- |
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