| 通过使用单相位掩模的受激发射耗尽(STED)来改善显微镜性能的装置 |
| PT11074718 2018-5-18 发明授权 |
| 2023-2-10 |
| 本发明涉及一种用于高空间分辨率成像的方法，该方法包括用于受激发射耗尽(STED)显微术和可逆饱和光学荧光跃迁(RESOLFT)显微术的相位板或空间光调制器(SLM)装置，其中双涡旋图案被压印在所述相位板或SLM上以产生光束。 双涡旋图案允许对STED光束进行整形的一些自由度，以提高显微镜的轴向性能和光学切片能力。本发明进一步涉及一种用于STED和RESOLFT显微术的方法，包括使用相位板或具有相位掩模的空间光调制器装置来调制激光器的光学相位的步骤，所述相位掩模包括具有可调半径的双涡旋。所公开的相位掩模以及STED和RESOLFT显微术的方法可以有利地应用于提供混合2D/3D STED区域，但是具有对准自由度的显著减小的相对 对于在非相干光束叠加中发现的，从而提供光束质量的改进，即最小化的中心强度和对像差的较低灵敏度，导致增加的信号水平和轴向性能。 |
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