| 微流控装置与在至少一个微通道或纳米通道 |
| GB0800269 2008-1-8 发明申请 |
| 2008-8-6 |
| 所述的装置，例如一相色谱仪，具有一个埋硅氧化物层104，例如之间的两个硅层102，106，与在至少一个流体通道，特别是一种纳米通道，该通道可被制成在该埋层104由一个刻蚀方法，其选择性地除去硅氧化物，但不硅，因此，一个所得到的流体通道的尺寸是有限通过所述厚度的所述埋入氧化物层104。它是可能的，以制造一非常薄的埋入氧化物层104具有很大的精度，因此一种纳米通道可被制造在一受控的方式，而且，在添加到埋氧化物; 任何对的物质与一个高的蚀刻比与相对于每个其它可被用于在所述的相同方式。 |
微信公众号