| 用于半导体系统中的显微镜和光谱学的方法和装置 |
| US17465562 2021-9-2 发明授权 |
| 2022-9-20 |
| 提出了一种缺陷检测和成像系统，用于在被测器件上执行显微镜和/或光谱学。 一种缺陷检测系统，包括：控制器，用于切换光源的状态； 这可以允许由同一系统对被测器件进行快速同时的高速检查和高分辨率检查成像，并且同时在亚秒时间尺度上传送检查，计算机生成的重构或断层扫描以及缺陷检查。 所述缺陷检测系统还包括转换器，用于将被测器件的X射线图像转换为光电子对比图像，以无损实时的方式实现纳米级的测量分辨率，以补充或替代破坏性的TEM。 这些光电子对比图像可由检测器接收以输出指示被测器件的一个或多个特征的电子格式图或3D/4D图像。 |
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