| 清洗系统 |
| JP2013019155 2013-2-4 发明申请 |
| 2013-7-4 |
| 要解决的问题 : 劳力和费用和无任何杂质包含在所述清洗流体在所述清洗流体可被分离从所述清洗系统。溶液 : 所述清洗系统10，杂质包含在所述清洗流体和所述清洗流体的一种气相色谱仪20从杂质和一个气-液分离装置18和一个控制器21。所述气相色谱仪20，流动后从所述气-液分离装置18用于检测杂质剩余的清洗流体，杂质具有被检测由所述检测装置和输出该结果到一个控制器21。该控制器21，流动从所述的气-液分离装置18其杂质后剩余的所述清洗流体可以从所述清洗流体被丢失，所述清洗流体在所述蒸气-液体分离装置18的一个合适 |
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