| 用于预测借由扫描电子显微镜(SEM)进行后续扫描之缺陷位置之方法、用于检测晶圆之系统、及相关电脑程式产品 |
| TW108145222 2019-12-11 发明授权 |
| 2022-6-11 |
| ?本文揭示一种用于涉及将一图案处理至一基板上之一器件制造制程之电脑实施的缺陷预测方法。非可校正误差用以帮助预测可能存在缺陷之位置从而使得度量衡产出率改良。在一实施例中非可校正误差资讯与由微影系统之透镜硬体、成像狭缝大小及其他物理特性之局限性所致的成像误差相关。在一实施例中非可校正误差资讯与由透镜加热效应诱导之成像误差相关。 |
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