| 用于所述确定的所述的集中性掩模过程 |
| DE102007049100 2007-10-11 发明申请 |
| 2009-4-23 |
| 它是一种过程用于确定所述的集中性的掩模(2)露出。所述掩模(2)所述是一个说明测量系统的一个的Z-轴干涉方面可调的测量表(20)。存储在一个坐标测量装置(1)垂直于上。所述掩模的情况坐标系统(30)关于所述测量仪器坐标系统(40)所述的基础上变成至少两个结构在所述掩模(2)确定。一个使所述的相对距离第一和第二的外侧边缘(21，22)的目的是至少用于使至少两个结构。该坐标测量机(1)确定所述实际坐标，其至少两个结构到所述各自的外边缘(21，22)，其可以从一个期望的值不超过一定的偏差。 |
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