| 坐标测量机用于所述确定的所述掩模上的结构的情况 |
| DE102009044294 2009-10-20 发明申请 |
| 2011-5-5 |
| 它是一种坐标测量机(1)揭示了用于测量所述的结构(32)上的位置的一掩模表面(31)。一种wavelengthselective反射装置(36)是适当的测量表(33)上，其光在一个第一波长覆盖，其中的第一发出的照明机构(10)，基本上一个反射，并从一个第二波长的光覆盖，其是通过一第二发送的照明机构(20)，基本上不反应，所述wavelengthselective反射装置(36)被训练的优先作为dichroitischer反射镜，通过检测该光从第一波长的覆盖，通过所反射的反射装置(36)，所述预先确定的段的情况是通过确定所述掩模的外边缘(37)。所述光从第二波长覆盖用于确定所述掩模上的所述的坐标的结构。由于该波长所述反射装置(36)的选择性该坐标调整是不削弱通过所述的光的反射从第二波长覆盖由所述反射装置(36)。 |
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