| 用于所述校准的测量过程表的一个坐标测量机 |
| DE102009003503 2009-2-18 发明申请 |
| 2010-8-19 |
| 它是揭示一种过程，其中用于所述的一测量校准表(20)的一种坐标测量机(1)。是合适的。用于该掩模(2)中放下一个所述测量的dreipunkt-auflage表(20)成为，其中所述掩模用于所述所测量的校准表(20)(2)一掩模(2)，其是使用用于所述的半导体制造。它发生不同的多个测量的位置，所述掩模(2)上的分配布置结构(3)。所述结构(3)是在所述掩模上的初始取向(2)转发。所述掩模(2)和所述结构(3)所述的位置是在转动方向转动一个确定。所述掩模(2)成为随后，移位和同样地，所述结构(3)确定的位置。一总校正功能是确定用于所述去除所述坐标相关的测量错误的，其中所述总校正功能由一个第一的校正功能和第第二校正功能。 |
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