| 一种基于测量的配置的线性刻度上能够测量到一个目标也垂直于所述测量轴移动 |
| EP11179587 2005-5-27 发明申请 |
| 2012-3-21 |
| 激光干涉仪和高-质量的线性编码器两者竞争线性测量系统中使用高精度机。平面激光干涉测量法允许测量到一个目标，其垂直于测量方向移动，以建立该线与所述功能中的激光束点。在这种方式，一堆叠的测量系统可以避免和测量配置在遵循与所述的阿贝原理可以被配置。在另一方面，激光干涉测量法是已知的，以对环境的变化敏感。高-质量的线性刻度是作为一种可供选择的。线性刻度的一个缺点是 : 所述目标是只允许沿着所述测量轴移动。用于多于一个方向中的目标翻译与一个范围在几个毫米，这导致一个简单堆叠的多个线性刻度在一起，与所述支撑滑动。这种间接的方式引入的误差和部分地破坏所提供的精度测量现代线性刻度。该专利描述了一种基于测量的概念上的线性刻度，其中将所述稳定性对环境的变化，典型的用于线性刻度，与所述测量到一个目标移动的能力还在一个方向垂直于所述测量轴，典型的用于平面反射镜的激光干涉测量法。所述用于多轴测量的概念是特别感兴趣的机器，其中一种稳定和均匀的气氛中不能被guarantied和其中测量应当在运动过程中完成。 |
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