| 一种基于测量的配置的线性刻度上能够测量到一个目标也垂直于所述测量轴移动 |
| GB0411837 2004-5-27 发明申请 |
| 2004-6-30 |
| 激光干涉仪和高质量线性编码器都是用于高精度机器中的竞争性线性测量系统。 平面激光干涉测量允许对垂直于测量方向移动的目标进行测量，并建立与功能点一致的激光束。 以这种方式，可以避免测量系统的堆叠，并且可以配置符合阿贝原理的测量配置。 另一方面，已知激光干涉测量对环境变化敏感。 高质量的线性刻度被用作备选方案。 线性刻度的缺点是仅允许目标沿着测量轴移动。 对于在几毫米以上的范围内在多于一个方向上平移的目标，这导致几个线性刻度与支撑滑动件一起的简单堆叠。 这种间接测量方式引入了误差，并部分破坏了现代线性刻度所提供的精度。 本专利描述了基于线性刻度的测量概念，其将对环境变化的稳定性与对也在垂直于测量轴的方向上移动的目标进行测量的能力相结合。 对于其中不能保证稳定和均匀气氛并且其中在运动期间应当进行测量的多轴机器，该测量概念是特别有意义的。 |
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