| 激光跟踪干涉仪 |
| JP2006175778 2006-6-26 发明申请 |
| 2007-3-8 |
| 要解决的问题 : 以提供一激光跟踪干涉仪的强抗运行出的一旋转机构，和几乎不影响通过一个缺陷和一个基准球的表面上的灰尘。溶液 : 这种激光跟踪干涉仪是提供具有 : 所述基准球212固定设置，一个滑架214构成以该基准球的中心周围旋转作为所述中心; 一激光干涉仪216用于输出一对应到一位移的位移信号的一后向反射器设置在所述滑架; 位移计218，219，用于输出所述位移信号对应于该基准球之间的相对位移及所述位移计; 一个数据处理器250用于计算一个所述后向反射器在所述基准球的位移，基于所述位移信号输出从所述位移计和所述位移信号输出从所述激光干涉仪; 一个位置检测装置238用于输出一对应的位置信号到一个偏差量，当激光束返回从所述后向反射器到所述激光干涉仪被移到一个其光轴正交的方向; 和一控制装置252用于控制所述滑架的所述匝，以使该偏差量为零; 基于该位置上的信号从所述位置检测装置。版权 : (C)2007，inpit |
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