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用于确定该理想的聚焦位置的过程的基板在一测量机

DE102007039981 2007-8-23 发明申请

2009-2-26

它是揭示一种用于确定该理想的聚焦位置的过程不同的基板上。一个聚焦确定的准则是，可以获得与其中所述最佳reproductibility。在一个偏移它被允许该用户以所述坐标测量停止所述的最优操作点机用于一基板上的结构尺寸的可再现的测量。