| 激光跟踪器与校准单元，用于自校准 |
| EP12177021 2012-7-19 发明申请 |
| 2014-1-22 |
| 本发明涉及一种用于连续跟踪一个目标的激光跟踪仪，具有一束源，用于生成测量辐射(55)，一个基座限定一垂直轴和一个支撑，其中所述支撑被可枢转的电机功率关于所述垂直轴相对于所述基座和由此一水平枢转角度被定义。所述跟踪器还包括一束引导单元(20)可枢转的电动机功率，其限定了一个垂直枢轴用于定向所述测量的辐射角(55)和用于接收测量辐射(55)，一个用于确定所述水平枢转角度和角度测量功能所述垂直枢转角度，距离测量功能和一光敏表面所反射的入射位置检测器用于检测测量辐射(55)。所述底座具有一自校准单元(60)与一第一的逆向反射参考目标(70)和一光学组件(50)作为一种减少透镜功能。为了确定一个校准参数用于所述激光跟踪器; 所述的自校准单元(60)也可以与所测量的目标辐射(55)在这样的一种方式，即光光束路径运行通过所述的光学组件(50)和所测量的辐射(55)撞击第一的逆向反射参考目标(70，71)，由此与一模拟一第一校准测量的距离从第一的逆向反射参考目标(70)可以被执行和所述模拟距离是大于一个实际结构的现有的距离(d‘)从第一的逆向反射参考目标(70)。 |
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