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使用极紫外/软X射线激光干涉测量法的纳米级光刻

US11840890 2007-8-17 发明申请

2008-7-24

本发明描述了通过使用46.9nm激光器的干涉光刻来直接构图纳米级特征。使用劳埃德镜干涉仪的多次曝光允许打印具有60nm FWHM特征的阵列。