| 受激辐射损耗显微镜及其显微成像系统 |
| CN202111370601.8 2021-11-18 发明申请 |
| 2022-4-12 |
| 本公开提供一种受激辐射损耗显微镜及其显微成像系统，所述显微成像系统包括位移台和位相板，位移台用于承载样品；位相板用于对垂直入射的第一光束和第二光束同时进行相位调制和汇聚，使得所述第一光束和所述第二光束经过所述位相板后，分别在所述显微镜的焦面处形成第一光斑和第二光斑，所述第一光斑和所述第二光斑的中心严格重合；其中，所述第一光束和所述第二光束的重叠区域可覆盖所述位相板。相较于现有技术，本公开的位相板具有小型化可聚焦多波长的特点，以纯相位调制型位相板代替了物镜，避免了物镜对光能量的损耗，提高了光强利用率。 |
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