| 坐标测量机，用于确定相位掩模的关系I。E。相移掩模，半导体的制造过程中，具有光学单元，其中基于确定的相位差异是在光学单元与探测器一起 |
| DE102007049099 2007-10-11 发明申请 |
| 2009-4-23 |
| 本发明是一种坐标测量机和一种过程用于确定所述的相位关系的一个掩模(2)。揭示。该坐标测量机覆盖一个块(25)，所述一个电平(25a)定义的，其携带一个移动测量表(20)。一个照明和一个说明机构是预期的，由此所说明的机构至少一个物镜(9)和一个检测器覆盖。所述的物镜(9)限定了一个检测路径射线。所述照明机构的训练一源光在顶部的照明光线的路径和\/或一个源在一个传输光的光路径射线。在所述的检测路径射线检测器单元被设置，所述的掩模(2)产生的相位差从所述确定的出射的光掩模(2)。 |
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