| 跟踪激光干涉仪 |
| JP2008084392 2008-3-27 发明申请 |
| 2009-10-15 |
| 要解决的问题 : 以执行高精度的测量通过消除由一拉伸力或摩擦影响力由于接触各种导线或光纤到一个基准球的支撑部分在一简单的结构。溶液 : 一跟踪激光干涉仪包括一个基准球10作为一个参考用于测量，该基准球的支撑部分12，用于支撑所述基准球，一旋转机构部20通过一个第一轴构成的旋转机构21和一第二轴旋转机构22用于执行两个轴旋转所述基准球的周围，和一个激光干涉测量长度测量装置30安装在该旋转机构部。根据与所述跟踪激光干涉仪中的一个目标轨道有关的信息返回的光从一个递归反射体(40)作为所述目标和所述递归反射体测量的距离在一种当光学轴的时间从所述激光发射的光干涉式长度测量装置安装在所述旋转机构部和所述返回光被由平行于每个其它，通过参照该基准球的中心坐标。一内周部第一的轴旋转机构21设置在一底座(14)的所述跟踪激光干涉仪是由以被一中空部分。一圆柱形盖60被设置在所述中空部通过插入该中空部分之间的间隙和该基准球的支撑部分12和一个线对第二轴旋转机构22被提供以作为以从中穿过的通到外部。版权 : (C)2010，inpit |
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