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产业专利数据

使用激光干涉测量法的终点检测

US10916386 2004-8-12 发明授权

2006-10-3

一种用于使用统计过程控制来确定(接近)实时环境中的端点的方法和系统。利用这种控制，可以监视半导体工艺(例如蚀刻)的终点。通过避免或减少错误条件(例如，欠刻蚀或过刻蚀)，监控可以导致提高的产率。